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hdi

용도

반도체 Wet공정에서 요구되는 고온의 DI Water를 공급하는 장치입니다.

특징

  • 고순도 석영으로 제작된 가온 탱크와 플루오르화탄소 재질을 접수면에 사용하여 DI water의 청정도를 유지합니다.
  • 96% 이상의 열효율
  • Compact design
  • 할로겐램프 히터 사용으로 온도상승 시간을 단축하였습니다.
  • 사용상의 안전을 고려한 Interlock 기능이 있습니다.
  • 장비의 전면부에 Touch Panel을 채용하여 운전이 용이하며 한글/영문 전환이 가능합니다.
  • 할로겐램프는 평균 5000시간 이상의 긴 수명을 가지고 있어 유지/보수비용의 절감 효과가 뛰어납니다.


    적용

  • Silicon wafers
  • Compound semiconductor wafers
  • Liquid crystal substrates
  • Magnetic discs
  • Optical discs
  • Photo-mask substrates
  • TFT LCD

  • Models HDW-12 HDW-18 HDW-24 HDW-36 HDW-48 HDW-96
    Flow Rate 12ℓ / min 18ℓ / min 24ℓ / min 36ℓ / min 48ℓ / min 96ℓ / min
    Dimension
    (D*W*H)
    1000*400*
    1460
    1000*400*
    1780
    1000*400*
    2100
    1000*700*
    1880
    1000*800*
    2150
    1400*1000*
    2680
    Flow Range ~30ℓ / min ~60ℓ / min ~120ℓ / min
    Power 48.0 kW 72.0 kW 96.0 kW 144.0 kW 192.0 kW 408.0 kW
    Q'ty of Heating Tank 2 3 4 6 8 8
    Q'ty of Heaters 12 18 24 36 48 48
    Heater Type Halogen Lamp Heater
    Temp Accuracy ±1℃ ( with constant DIW flow )
    Heating Up Time Within 1' 40" at △T 55℃
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